振奋人心!中国科技界迎来三大突破,这将意味着什么?

2021-04-02 16:14:06 | 来源:百度 | 参与: 0 | 作者:时评

  

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  图为光刻机

  无法制造高精端逻辑、存储芯片,一直都是中国半导体行业长期难以解决的痛点,而美国也是抓住了这个短板,联合盟友对中国的芯片产业进行打压,试图将正在成长的半导体扼杀在摇篮之中。

  不过,无论是“两弹一星”,还是航空航天,中国都是在国外技术重重封锁的状态下,独立自主地完成了研究成果,同样的是,中国最近科技界迎来了三大突破,增强国人信心有着特殊意义。

  第一大突破,EUV光源的重大突破,前不久清华大学科研团队发表了一篇有关紫外光源的研究成果,报告显示他们利用稳态微聚束,这种新型粒子进行了原理验证实验,更为确切地说,研究团队,利用波长为1064纳米的激光,操控电子束绕环形成精密的微型结构。

  荷兰的阿斯麦公司目前是全世界唯一能够生产极紫外光刻机的厂商,其中它里面需要的是高功率的光源,而清华大学团队验证微聚束形成实验,给大功率EUV光源提供了一种新的思路,也为中国独立研发光刻机提供理论基础。

  第二大突破是,华为鸿蒙系统2.0将会在今年四月份与大家见面,上个月华为的MateX2手机发布会上,CEO余承东表示,华为将会对鸿蒙系统进行升级,此前的1.0版本主要是应用在智慧屏上,而这次升级后的2.0版本将会直接装入华为MateX2折叠屏手机。

  鸿蒙系统如果能够成功,无疑是给中国科技界注入了一剂强心针,作为一款国产自主研发的操作系统,国产手机未来能够摆脱安卓、IOS系统的依赖,据了解除了首批华为MateX2手机将搭载鸿蒙2.0系统之外,EMUI 11.0、MagicUI4.0等手机系统版本的华为、荣耀手机也都将在今年内,陆续完成鸿蒙系统的升级,可以说它的未来前景十分巨大。

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